依托材料合成与制备技术积累的综合研发实力，为不同领域客户研发领先市场的功能材料产品。
由金属铪反应蒸发制备的HfO2薄膜，具有如下效应：由于满足了铪的悬空键，因此降低了氧化铪薄膜的光学吸收；降低了薄膜的平均折射率；减小了薄膜的光学非均匀性，具有低的散射损失。
分子量
178.49
密度
13.09
熔点
2230℃（10-2Pa蒸发温度3090℃）
折射率
反应蒸发制备HfO2（详见HfO2）
产品规格
颗粒，靶
