依托材料合成与制备技术积累的综合研发实力，为不同领域客户研发领先市场的功能材料产品。
采用独有的原料萃取体系，实现锆铪的深度分离；通过多次结晶，实现杂质离子的去除，制备的HfO2粉体纯度达到99.99%以上，Zr含量小于0.5wt%。
二氧化铪镀膜材料折射率高，吸收小，特别适用于248nm以下的低吸收薄膜，同时适合镀制AR膜层、滤光片、反射镜以及高硬度和抗划伤光学层。二氧化铪薄膜具有较高的激光损伤阈值(LIDT)，在近紫外到中红外波段的良好透过性能等特点，在制备高性能器件和高能激光方面具有重要的应用。
材料名称 |
二氧化铪 |
分子式 |
HfO2 |
产品规格 |
1-3mm，3-5mm |
8*6mm, 10*7mm,18*4.5mm,18*6mm,18*12mm,25*6mm,25*12mm,31*15mm,33*7mm |
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其他规格可根据要求提供 |
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颜色 |
白色、黑色 |
纯度 |
99.99% (Zr<0.5%) |
理论密度 |
9.7 g/cm3 |
折射率 |
1.9~2.07（at 550nm） |
熔点 |
2812℃ |
蒸发温度 |
2300~2700℃ |
透光范围 |
220nm~12μm |
蒸发方式 |
电子枪 |
应用领域 |
对激光损伤阈值要求较高的激光涂层 |
AR涂层、滤光片、反射镜、分束器 |
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保护膜层 |
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质量保证 |
COA、RoHS, MSDS |
