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五氧化二钽镀膜材料是最常用的高折射镀膜材料之一，能在玻璃和塑料基材上形成稳定的薄膜，在从紫外到中红外的广泛光谱范围内具有低吸收。
通常五氧化二钽在沉积过程中应充氧进行，特别适用于镀制AR等光学多层膜。在优化的条件下，可以获得在可见光中没有光学吸收的膜层。广泛应用于制备光通讯滤波器用多层干涉膜。
材料名称 |
五氧化二钽 |
分子式 |
Ta2O5 |
产品规格 |
1-3mm，1-6mm |
高密度圆粒1-3mm |
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各种规格片状,环状 |
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其他规格可根据要求提供 |
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颜色 |
白色、黑色 |
纯度 |
99.99% |
理论密度 |
8.2g/cm3 |
折射率 |
2.07~2.13（at 550nm） |
熔点 |
1880℃ |
蒸发温度 |
2000 ~ 2200 °C |
透光范围 |
350nm~7000nm |
蒸发方式 |
电子枪、离子溅射 |
应用领域 |
低吸收高精度滤光片 |
对激光损伤阈值有较强要求的激光涂层 |
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金属表面的保护和反射增强膜层 |
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光通信 |
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用于玻璃，晶体基片和聚合物上的UV, VIS和NIR的高质量AR和其他光学多层涂层 |
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质量保证 |
COA、ROHS, MSDS |
